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【2022培訓(xùn)課程】X射線 激光粒度 納米粒度 GPC 微量熱培訓(xùn)課程

更新時(shí)間:2022-07-21      點(diǎn)擊次數(shù):1284


01

課程介紹及時(shí)間安排



圖片

XRD 基礎(chǔ)課程

XRD Basic

了解粉末衍射的基本理論和光路幾何,進(jìn)一步掌握針對(duì)各種樣品的測(cè)試如何選擇儀器配置寄設(shè)置掃描參數(shù),深入學(xué)習(xí)HighScore (Plus) 物相分析軟件。


D1:X射線的產(chǎn)生,晶體學(xué)基礎(chǔ)及粉末衍射聚焦光路    

D2:平行光路幾何,上機(jī)操作    

D3:物相定性分析,晶粒尺寸分析,結(jié)晶度分析    

D4:結(jié)構(gòu)精修,無標(biāo)定量分析    

D5:衍射儀維護(hù)保養(yǎng),上機(jī)操作,自由討論  


圖片

波長(zhǎng)色散 XRF 基礎(chǔ)課程

WD-XRF Basic

了解X射線熒光工作原理,掌握樣品的制備,了解波長(zhǎng)色散型熒光光譜儀主要光學(xué)部件組成和軟件功能,掌握建立定量分析方法的步驟和Omnian無標(biāo)定量分析軟件的基本功能。課程時(shí)長(zhǎng)5天。

D1: X射線熒光原理介紹,樣品制備分析,軟件簡(jiǎn)介

D2: 詳細(xì)介紹定量分析方法的建立

D3: Omnian無標(biāo)定量分析軟件的基本功能

D4: 上機(jī)操作,自由討論

D5: 熒光光譜儀的維護(hù)和保養(yǎng)


圖片

能量色散 XRF 基礎(chǔ)課程

ED-XRF Basic

了解X射線熒光工作原理,掌握樣品的制備,了解Epsilon系列能量色散型熒光光譜儀主要光學(xué)部件組成和軟件功能,掌握建立定量分析方法的步驟。課程時(shí)長(zhǎng)4天。


D1: X射線熒光原理介紹,樣品制備分析,軟件簡(jiǎn)介

D2: 詳細(xì)介紹定量分析方法的建立

D3: 上機(jī)操作,自由討論

D4: 熒光光譜儀的維護(hù)和保養(yǎng)


圖片

激光粒度課程

Mastersizer 3000


了解激光衍射基本理論、原理,掌握樣品制備和測(cè)量方法,數(shù)據(jù)解析及誤差原因分析。課程時(shí)長(zhǎng)2天。


  • 通用課程:

D1:激光衍射基本理論, 測(cè)量原理;影響測(cè)量結(jié)果的因素分析, 結(jié)果可靠性的判別及優(yōu)化樣品分散方法的建立。

D2:軟件功能培訓(xùn);典型樣品分散及測(cè)量實(shí)例,上機(jī)實(shí)踐,疑難問題解答及儀器的維護(hù)保養(yǎng)。



圖片

納米粒度及電位課程

Zetasizer


了解動(dòng)態(tài)光散射、zeta電位基本理論、原理,掌握樣品制備和測(cè)量方法,數(shù)據(jù)解析及軟件應(yīng)用。課程時(shí)長(zhǎng)2天。


  • 通用課程:

D1: 動(dòng)態(tài)光散射(DLS)基本理論,測(cè)量原理,樣品分散要點(diǎn),測(cè)量結(jié)果及參數(shù)分析, 典型樣品測(cè)量及問題解答。

D2: Zeta 電位理論基礎(chǔ)及測(cè)量原理,樣品制備原則及應(yīng)用指導(dǎo),上機(jī)實(shí)踐, 疑難問題解答及儀器的維護(hù)保養(yǎng)規(guī)程。


圖片

納米粒度跟蹤課程

NTA(Nanosight)


了解納米顆粒跟蹤分析技術(shù)理論原理,學(xué)習(xí)測(cè)量與分析方法。課程時(shí)長(zhǎng)1天。


D1:納米顆粒跟蹤分析技術(shù)(NTA)基本理論,測(cè)量原理,應(yīng)用案例分析,上機(jī)實(shí)踐,疑難問題解答及儀器維護(hù)保養(yǎng)。


圖片

GPC課程

GPC(Omnisec)


了解凝膠滲透色譜技術(shù)理論原理,掌握溶劑配制原則和樣品制備方式,掌握檢測(cè)條件和信號(hào)讀取的設(shè)置,并理解其意義。課程時(shí)長(zhǎng)3天。


D1:凝膠滲透色譜分離原理及檢測(cè)器原理,流動(dòng)相要求及樣品制備方式。

D2:檢測(cè)條件設(shè)置,信號(hào)讀取,窄分布和寬分布樣品的檢測(cè)及其意義。

D3:實(shí)際操作培訓(xùn)。


圖片

微量熱技術(shù)課程

ITC&DSC  (MicroCal ITC & DSC)


等溫滴定量熱儀(PEAQ-ITC)是如何工作的?它能解決我們科研工作中的哪些問題?如何設(shè)計(jì)一個(gè)合理的ITC實(shí)驗(yàn),如何獲取可靠的ITC數(shù)據(jù)?面對(duì)實(shí)驗(yàn)中出現(xiàn)的一些奇怪的圖譜,我們應(yīng)該如何判斷、分析和改進(jìn)?馬爾文全新一代的PEAQ-ITC提供了哪些方便的選項(xiàng)?課程時(shí)長(zhǎng)1天至1天半。


D1:PEAQ-ITC的原理及應(yīng)用介紹,儀器講解及實(shí)驗(yàn)操作、軟件講解及儀器維護(hù)等。


微量熱差式掃描量熱儀(PEAQ-DSC)是如何工作的?如何正確的設(shè)計(jì)一個(gè)DSC實(shí)驗(yàn)?如何準(zhǔn)備DSC樣品?如何獲取可靠的DSC數(shù)據(jù)?馬爾文全新一代的PEAQ-DSC automated又提供了哪些方便的選項(xiàng)?課程時(shí)長(zhǎng)1天至1天半。


D1:微量熱差式掃描量熱儀原理及應(yīng)用介紹;儀器講解及上機(jī)演示;軟件講解及儀器維護(hù)等。


馬爾文帕納科2022年度下半年培訓(xùn)課程一覽

培訓(xùn)地點(diǎn):上海

時(shí)間

課程

報(bào)名截止時(shí)間

7月18-22日

GPC(Omnisec)

7月11日

7月28-29日

激光粒度

(MS 3000 )

7月18日

8月1-5日

WDXRF基礎(chǔ)

(Zetium)

7月25日

8月15-18日

XRD基礎(chǔ)

(Aeris)

8月8日

9月5-9日

WDXRF基礎(chǔ)

(Zetium)

8月29日

9月26-29日

EDXRF基礎(chǔ)

9月19日

10月11-12日

微量熱技術(shù)

(PEAQ DSC)

10月3日

10月13日

微量熱技術(shù)

(PEAQ ITC)

10月3日

10月17-21日

WDXRF(基礎(chǔ))

(Axios)

10月10日

10月27日

納米粒度及電位

(Zetasizer)

10月20日

10月31日

-11月4日

XRD基礎(chǔ)

10月24日

11月24-25日

激光粒度

(MS 3000 )

11月14日

11月28日

-12月2日

WDXRF基礎(chǔ)

(Zetium)

11月21日

培訓(xùn)地點(diǎn):北京

時(shí)間

課程

報(bào)名截止時(shí)間

8月25日

納米粒度跟蹤(Nanosight)

8月16日

9月1日

納米粒度及電位

(Zetasizer)

8月22日

9月22-23日

激光粒度

(MS 3000 )

9月12日

培訓(xùn)費(fèi)為RMB2303元/人·天,每臺(tái)儀器的新用戶可提供兩個(gè)免費(fèi)培訓(xùn)名額,不包含食宿和交通費(fèi)用,每場(chǎng)培訓(xùn)報(bào)名人數(shù)達(dá)到6人即可開班,培訓(xùn)人數(shù)上限為16人,報(bào)滿截止,報(bào)名確認(rèn)后會(huì)于培訓(xùn)前發(fā)培訓(xùn)通知。


02

咨詢及付費(fèi)信息


以上課程安排可能會(huì)因不可抗因素進(jìn)行調(diào)整,實(shí)際開課日期請(qǐng)參考報(bào)名表單中實(shí)時(shí)更新的選項(xiàng)。


如您有任何疑問

請(qǐng)聯(lián)系咨詢馬爾文帕納科亞太應(yīng)用中心


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“歡迎關(guān)注馬爾文帕納科微信公眾號(hào)獲取報(bào)名信息"
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亞太應(yīng)用中心地址

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馬爾文帕納科亞太應(yīng)用中心地址:

上海市閔行區(qū)中春路1288號(hào)

金地威新閔行科創(chuàng)園區(qū)24號(hào)樓3A層

北京應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室地址

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馬爾文帕納科北京應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室地址:

北京市石景山區(qū)魯谷路74號(hào)

瑞達(dá)大廈F906




03

公司使命目標(biāo)

馬爾文帕納科的使命是通過對(duì)材料進(jìn)行化學(xué)、物理和結(jié)構(gòu)分析,打造出客戶導(dǎo)向型創(chuàng)新解決方案和服務(wù),從而提高效率和產(chǎn)生切實(shí)的經(jīng)濟(jì)影響。通過利用包括人工智能和預(yù)測(cè)分析在內(nèi)的技術(shù)發(fā)展,我們能夠逐步實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。這將讓各個(gè)行業(yè)和組織的科學(xué)家和工程師可解決一系列難題,如有效地提高生產(chǎn)率、開發(fā)更高質(zhì)量的產(chǎn)品及幫助產(chǎn)品更快速地上市。

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